质量好的匀胶机转速一般在多少？

1、光刻胶通过旋涂方式实现涂布，适用于不同厚度的光刻胶。薄胶最佳转速为2000~4000rpm，厚胶则在250~2000rpm间选取，匀胶机转速可达9000rpm，使用较低转速如1000~200rpm，虽能获得较厚胶层，但胶膜质量会下降且容易在晶圆边缘形成胶珠。旋涂可获得30~200um的胶厚，自流平方法则可达1mm以上。

2、以12英寸的晶圆（半径0.15m）为例，为了保证良好的均匀性，需要控制角速度ω和转速N在一定范围内。根据雷诺数的计算公式和经验值，可以估算出12英寸晶圆在匀胶时的最大转速不应超过2000转/分钟。超过这个转速，光刻胶的均匀性可能会大打折扣。

3、匀胶机旋涂仪的工作原理主要包括滴胶、高速旋转和干燥三个步骤：滴胶：静态滴胶：将光刻胶简单地滴注到静止的基片表面中心。滴胶量根据光刻胶的粘度和基片的大小来确定，通常为110ml。动态滴胶：在基片低速旋转的同时进行滴胶。

4、在性能指标方面，匀胶机的腔体尺寸为15英寸，适合直径在10-200mm之间的材料。其转动速度可达0-12，000rpm，旋涂加速度为0-30000rpm/sec（空载）。匀胶机的马达旋涂转速稳定性能误差小于±1%，转速调节精度小于0.2rpm，重复性小于0.2rpm。工艺时间设定范围广泛，从1秒到5999秒，精度达到0.1秒。

5、溶剂挥发：以固定转速继续旋转已涂胶的硅片，直至溶剂挥发，光刻胶胶膜几乎干燥。这一阶段需要控制旋转时间和环境湿度，以避免光刻胶出现裂纹或厚度不均等问题。匀胶技巧与注意事项 选择合适的匀胶机：高精度的匀胶机能够确保光刻胶的均匀性和厚度一致性。